Labor-Sputteranlagen Z400 & Z400neo

Die Laborsputteranlagen Z400 und Z400neo (Systec SVS vacuum coatings, Karlstadt, Germany) besitzen jeweils 2 Quellen mit HF, DC oder gepulster Versorgung (100W bis 3000 W), BIAS-Spannung am Substrat, Einleitung von 3 externen Gasen und mögliche Integration eines Sputterprozessmonitors zur Partialdruckregelung. Die Anlagen können daher sehr variabel zur Herstellung metallischer oder keramischer Schichten in monolithischer, gradierter oder auch Mehrlagenanordnung im Bereich bis einigen µm Gesamtschichtdicke eingesetzt werden. Eine Probenrotationsvorrichtungen mit Einzel- und Mehrfachprobenaufnahme und einer kontinuierlichen Rotation erlaubt die Beschichtung mehrerer Proben in einem Run (batch-Betrieb). Der maximal verwendbare Targetdurchmesser beträgt 100 mm.